当前位置: 首页>人才队伍>研究人员

章嵩

 

章嵩,研究员、博士生导师,国家级高层次人才(青年项目)

个人简介
章嵩,男,工学博士,2010年毕业于武汉理工大学,曾在日本東北大学从事博士后研究工作。现就职于武汉理工大学新葡萄娱乐进路网址是研究员、博士生导师。主要从事无机薄膜与涂层的设计优化、性能评价与工程应用以及相关生产装备的研发工作。主持科技部国家重点研发计划、国家自然科学基金、湖北省技术创新专项重大项目、国内外企业委托研发项目等科技与人才项目三十余项。入选国家级高层次人才(青年项目),获中国建筑材料联合会·中国硅酸盐学会科学技术奖基础研究类一等奖、十三届中国硅酸盐学会青年科技奖。在CarbonJournal of Power SourcesJournal of the American Ceramic SocietyJournal of the European ceramic SocietyApplied Physics Letters等国际重要学术期刊发表科技论文90余篇;获得授权国家发明专利14项。


基本情况

出生年月:19821        

学        位:博士

职        称:研究员   

工作单位:新葡萄娱乐进路网址是


教育经历

2000/09-2004/06   武汉理工大学 材料科学与工程    学士

2004/09-2007/06   武汉理工大学 材料学                    硕士

2007/09-2010/06   武汉理工大学 材料加工工程        博士


工作经历   

2010/09-2012/10    华中科技大学         电子科学与技术系    博士后

2011/01-2012/10    东北大学(日本) 金属材料研究所        研究助手

2012/12-                 武汉理工大学         新材料研究所            研究员、博士生导师     


研究领域   

1. 无机薄膜与涂层的生长动力学过程与微观结构演化控制

2. 第三代半导体(碳化硅等)、超宽禁带半导体(金刚石等)

3. 新型化学、物理气相沉积技术与装备

4. 无机薄膜的高通量制备技术


主持科研项目

1. 企业委托项目,碳化硅晶圆外延单片机热、流场设计,2021-2023

2. 企业委托项目,工业级化学气相沉积系统,2020-2024

3. 国家自然科学基金项目(面上基金),连续激光化学气相沉积立方碳化硅的显微结构控制与生长机理研究,2020-2023

4. 国家科技部,国家重点研发计划-政府间国际科技创新合作重点专项,高取向立方碳化硅块体快速制备技术合作研究,2019-2022

5. 国家教育部,装备预研教育部联合基金,太赫兹雷达用立方碳化硅基板材料的快速制备与结构控制,2019-2020

6. 湖北省科技厅,湖北省技术创新专项重大项目,低成本、长寿命、超硬碳化物涂层制备技术,2019-2021

7. 国家国防科技工业局,基础科研挑战专题,多种动态压缩实验钒金属靶的显微结构控制与研究,2017-2020

8. 国家科技部,国家重点研发计划-国际合作专项项目,大尺寸碳化硅的激光化学气相沉积技术及应用合作研发,2014-2017

9. 国际合作项目,卤化物化学气相沉积法制备Ti-Si-C复合材料厚膜成型技术,2015-2018

10. 国家自然科学基金项目(青年基金),基于脉冲激光沉积富硼 B-C 薄膜的关键技术研究,2012-2014


最新发表论文

1. Z. Liu, Y. Cai, R. Tu, Q. Xu, M. Hu, C. Wang, Q. Sun, B. Li, S. Zhang*, C. Wang, T. Goto, L. Zhang, Laser CVD Growth of Graphene/SiC/Si Nano-matrix Heterostructure with Improved Electrochemical Capacitance and Cycle Stability, Carbon N. Y. 175 (2021) 377–386. https://doi.org/10.1016/j.carbon.2021.01.004

2. Q. Sun, R. Tu, Q. Xu, C. Zhang, J. Li, H. Ohmori, M. Kosinova, B. Basu, J. Yan, S. Li, T. Goto, L. Zhang, S. Zhang*, Nanoforest of 3C-SiC/graphene by laser chemical vapor deposition with high electrochemical performance, J. Power Sources. 444 (2020) 227308. https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2019.227308.

3. C. Zhang, Z. Wang, R. Tu, M. Dong, J. Li, M. Yang, Q. Li, J. Shi, H. Li, H. Ohmori, S. Zhang*, L. Zhang, T. Goto, Growth of self-aligned single-crystal vanadium carbide nanosheets with a controllable thickness on a unique staked metal substrate, Appl. Surf. Sci. 499 (2020) 143998-1–5. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.143998.

4. Z. Liu, Q. Xu, C. Zhang, Q. Sun, C. Wang, M. Dong, Z. Wang, H. Ohmori, M. Kosinova, T. Goto, R. Tu, S. Zhang*, Applied Surface Science Laser-induced growth of large-area epitaxial graphene with low sheet resistance on 4H-SiC ( 0001 ), Appl. Surf. Sci. 514 (2020) 145938. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.145938.

5. C. Zhang, R. Tu, J. Li, M. Yang, Q. Li, J. Shi, H. Li, H. Ohmori, S. Zhang*, L. Zhang, T. Goto, Growth of umbrella-like millimeter-scale single-crystalline graphene on liquid copper, Carbon N. Y. 150 (2019) 356–362. https://doi.org/10.1016/j.carbon.2019.05.013.

6. Q. Sun, M. Yang, J. Li, Q. Xu, R. Tu, Q. Li, S. Zhang*, L. Zhang, T. Goto, H. Ohmori, M. Kosinova, Heteroepitaxial growth of thick 3C-SiC (110) films by Laser CVD, J. Am. Ceram. Soc. 102 (2019) 4480–4491. https://doi.org/10.1111/jace.16297.

7. P. Zhu, M. Yang, Q. Xu, Q. Sun, R. Tu, J. Li, S. Zhang*, Q. Li, L. Zhang, T. Goto, J. Shi, H. Li, H. Ohmori, M. Kosinova, B. Basu, Epitaxial growth of 3C-SiC on Si(111) and (001) by laser CVD, J. Am. Ceram. Soc. 101 (2018) 3850–3856. https://doi.org/10.1111/jace.15557.

8. R. Tu, Y. Liang, C. Zhang, J. Li, S. Zhang*, M. Yang, Q. Li, T. Goto, L. Zhang, J. Shi, H. Li, H. Ohmori, M. Kosinova, B. Basu, Fast synthesis of high-quality large-area graphene by laser CVD, Appl. Surf. Sci. 445 (2018) 204–210. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.03.184.

9. T. Zhu, Y. Liang, C. Zhang, Z. Wang, S. Zhang*, A high-throughput synthesis of large-sized single-crystal hexagonal boron nitride on a Cu-Ni, RSC Adv. 10 (2020) 16088–16093. https://doi.org/10.1039/D0RA00734J.

10.  Q. Xu, Z. Deng, Q. Sun, R. Tu, S. Zhang*, M. Yang, Q. Li, L. Zhang, T. Goto, H. Ohmori, Electrically conducting graphene/SiC(111) composite coatings by laser chemical vapor deposition, Carbon N. Y. 139 (2018) 76–84. https://doi.org/10.1016/j.carbon.2018.06.038.

11.  Q. Xu, P. Zhu, Q. Sun, R. Tu, S. Zhang*, M. Yang, Q. Li, J. Shi, H. Li, L. Zhang, T. Goto, M. Han, J. Yan, S. Li, H. Ohmori, Fast preparation of (111)-oriented β-SiC films without carbon formation by laser chemical vapor deposition from hexamethyldisilane without H2, J. Am. Ceram. Soc. 101 (2018) 1471–1478. https://doi.org/10.1111/jace.15315.

12.  C. Zhang, J. Huang, R. Tu, S. Zhang*, M. Yang, Q. Li, J. Shi, H. Li, L. Zhang, T. Goto, H. Ohmori, Transfer-free growth of graphene on Al2O3(0001) using three-step method, Carbon N. Y. 131 (2018) 10–17.

13.  Q. Sun, P. Zhu, Q. Xu, R. Tu, S. Zhang*, J. Shi, H. Li, L. Zhang, T. Goto, J. Yan, S. Li, High-speed heteroepitaxial growth of 3C-SiC (111) thick films on Si (110) by laser chemical vapor deposition, J. Am. Ceram. Soc. 101 (2018) 1048–1057. https://doi.org/10.1111/jace.15260.

14.  H. Cheng, M. Yang, Y. Lai, M. Hu, Q. Li, R. Tu, S. Zhang*, M. Han, T. Goto, L. Zhang, Transparent highly oriented 3C-SiC bulks by halide laser CVD, J. Eur. Ceram. Soc. 38 (2018) 30573063. https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2018.03.015.

15.  R. Tu, D. Zheng, H. Cheng, M. Hu, S. Zhang*, M. Han, T. Goto, L. Zhang, Effect of CH4/SiCl4 ratio on the composition and microstructure of <110>-oriented β-SiC bulks by halide CVD, J. Eur. Ceram. Soc. 37 (2017) 1217–1223. https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2016.11.015.

16.  Q. Xu, P. Zhu, Q. Sun, R. Tu, M. Yang, S. Zhang*, Elimination of double position domains (DPDs) in epitaxial <111>-3C-SiC on Si(111) by laser CVD, Appl. Surf. Sci. 426 (2017) 662–666. https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2017.07.239.

17.  C. Zhang, R. Tu, S. Zhang*, J. Huang, T. Gao, M. Yang, Q. Li, J. Shi, L. Zhang, T. Goto, Synthesis of Large Size Uniform Single-Crystalline Trilayer Graphene on Premelting Copper, Carbon N. Y. 122 (2017) 352–360. https://doi.org/10.1016/j.carbon.2017.06.096.

18.  H. Cheng, R. Tu, S. Zhang*, M. Han, T. Goto, L. Zhang, Preparation of highly oriented β-SiC bulks by halide laser chemical vapor deposition, J. Eur. Ceram. Soc. 37 (2017) 509–515. https://doi.org/10.1016/j.jeurceramsoc.2016.09.017.

19.  P. Zhu, Q. Xu, R. Chen, S. Zhang*, M. Yang, R. Tu, L. Zhang, T. Goto, J. Yan, S. Li, Structural study of beta-SiC (001) films on Si (001) by laser chemical vapor deposition, J. Am. Ceram. Soc. 100 (2017) 1634–1641. https://doi.org/10.1111/jace.14672.

20. R. Tu, D. Zheng, Q. Sun, M. Han, S. Zhang*, Z. Hu, T. Goto, L. Zhang, Ultra-Fast Fabrication of <110>-Oriented β-SiC Wafers by Halide CVD, J. Am. Ceram. Soc. 99 (2016) 84–88. https://doi.org/10.1111/jace.13980.


联系方式

1Tel86 27 8749 9449 

2E-mailkobe@whut.edu.cn

3. 工作地址(实验室):武汉理工大学西院逸夫楼506

手机扫一扫

版权所有 新葡萄娱乐进路网址是

通讯地址:湖北省武汉市武昌区洪山珞狮路122号 (中国 武汉 430070)

邮编:430070

电话:027-87884448

E-mail:sklwut@whut.edu.cn